材料生产设备--MPCVD薄膜制备装置

优普莱

适合的应用：
, N5 m0 L9 m+ h" y! _+ T% L% T# j化学气相沉积法制备石墨烯薄膜、碳纳米管薄膜、富勒烯、金刚石膜和类金刚石膜等高品质碳纳米薄膜材料；
  `1 x( w6 u' i# |& x7 F6 B化学气相沉积法制备其他高品质无机薄膜；
等离子体清洗、微波烧结、金属表面强化和高聚物表面改性等。
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1 e; D$ _/ v$ n3 `3 r" t( Y; u产品特点：
微波频率2.45GHz，微波功率连续可调，可长时间连续工作；
* T# ]) t8 d. V. j& h) z  f6 a: O微波等离子体装置能量转化效率高，等离子体活性强密度高，无电极放电，从而避免了电极污染；
产品功率从1kw到5kw，有石英管式、石英钟罩式和金属谐振腔式等多种产品形式；
产品配有可升降的基片台和反应气体均流措施，改善了沉积环境；
基片台可选加热和水冷配置以及偏压电场；
两路至四路气体可选，气体流量控制采用MFC或转子流量计，气路管道电化学抛光；
9 J' A1 d! g9 j+ Z1 H- n配备冷却水循环系统，无水源要求，确保装置高功率下长时间安全稳定运行；
. s; D+ d& L5 M+ |* p' z( {8 G采用干式／湿式机械真空泵，可选配扩散泵与涡轮分子泵。
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