硫氮碳共渗剂及工艺参数

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方法	商品名称或代号	渗剂成分或配方	工艺参数		生产周期 (h)	备注
			温度(℃)	时间(h)
熔盐法	Sursulf	工作盐浴(基盐)CR4由钾,钠,锂的氰酸盐与碳酸盐和少量硫化钾组成:再生盐CR2用于调整成分	500～590(常用560～580)	0.2～3	0.3～3.5	法国于1975年开;无污染,应用面广,处理时间通常为1~2h.本工艺已取代高氰熔盐法
熔盐法	LT工艺	工作盐浴为基盐J-1,成分与法国CR4相同.加以调整的J-2基盐(无硫)则用于氮碳共渗或QPQ处理.再生盐Z-1与CR2相同可用于调整硫氮碳共渗或氮碳共渗熔盐的成分	500～590(常用550～580)	0.2～3	0.3～3.5	国家"六五"重点科技攻关成果,兼具Sursulf及西德的Melonite,QPQ工艺的功能，SNC共渗后的工件直接转入Y-1氧化浴（性以下AB1浴相同）的LTC-1处理与法国oxynit无异
熔盐法	JIHBT-6a	57%(NH2)2CO	500～590	0.5～3	0.7～3.5	原料无毒，工作状态下不断形成KCN，NaCN，有较大的毒性
熔盐法	JIHBT-6a	38%K2CO3	500～590	0.5～3	0.7～3.5	原料无毒，工作状态下不断形成KCN，NaCN，有较大的毒性
熔盐法	JIHBT-6a	5%Na2S2O3	500～590	0.5～3	0.7～3.5	原料无毒，工作状态下不断形成KCN，NaCN，有较大的毒性
气体法	-	5%NH30.02～2%H2S,丙烷与空气制得的载气(余量)	500～650	1～4	2～5	必要时加滴碳当量小的煤油或苯，以提高碳势
气体法	-	每1LC6H6中溶入25g(C6H4)2NHS及9gS:NH3适量	500～650	1～4	2～5	在通氨的同时,滴入CS2或其它含硫的有机液体供硫剂(例如将NH4CNS溶入C2H5OH中)均可
气体法	KYGS块	每1L含C,N的有机物液体(例如CH3OH与HCONH2各半中加入(NH2)2及H3-BO3各8g	540～570	1～2	2～3
膏剂法	-	37%ZnSO4	550～570	2～4	3～5	适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化
膏剂法	-	18.5%K2SO4(或18.5%Na2SO4)	550～570	2～4	3～5	适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化
膏剂法	-	37.5%Na2S2O3	550～570	2～4	3～5	适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化
膏剂法	-	7%KCNS	550～570	2～4	3～5	适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化
膏剂法	-	14%H2O(另加)	550～570	2～4	3～5	适用于单件或小批生产的大工件的局部表面强化
粉末包装(固体)法	-	35～60FeS	550～650	4～8	5～9	效率低,有粉尘污染
粉末包装(固体)法	-	10～20K4Fe(CN)6	550～650	4～8	5～9	效率低,有粉尘污染
粉末包装(固体)法	-	石墨粉(余量)	550～650	4～8	5～9	效率低,有粉尘污染
离子法	-	CS2	550～650	1～4	2～5	可用含S的有机溶液代CS2
离子法	-	NH3	550～650	1～4	2～5	可用含S的有机溶液代CS2