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电镀工艺中一般光亮镀镍故障处理方法

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发表于 2011-6-20 22:44:56 | 显示全部楼层 |阅读模式

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故障现象
8 ]1 [# U5 m9 i- F9 V0 L8 e可能原因* l- R- t/ Z& M& K* I  q( `
纠正方法
" K& ]6 y- C& \" E5 g1.低电位漏镀或走位差
0 k$ r  ]. _2 Z6 \/ e: `a)光亮剂过多6 z; ~5 G( H7 q( ~4 A. r# w
b)柔软剂不足# w3 W: U* R8 W- ~% E' j8 s3 y+ N1 L
a)将PH调低至3.0-3.5后电解消耗
, a+ M6 h+ Q* r0 k  pb)添加适量柔软剂
# N3 s& e( h' _, _7 C+ s2.低电位起雾整平度差6 |( f3 q, K7 `5 G! M
a)光亮剂不足* Y: U0 D7 k- R, |5 F9 [1 ?0 }
b)有机分解物多" |$ Q! \& E% H  q+ |
c)PH位太高或太低
& k6 Z; ?; R$ `1 ?2 Ka)适当补加光亮剂/ i" |5 e* q( |3 a6 g7 p( o+ {
b)双用氧水活性炭处理- |8 Z2 F' ]! }) ~% H- B
c)调整至工艺范围
! i* [  g7 ~! i8 r5 V0 }6 U3.低电位发黑,发灰* k* k+ i8 y# Y8 l3 `' Q$ K0 F
a)镀液中有铜,锌等杂质等: y; z$ Q6 Z  n+ }& C5 N
b)光亮剂过量2 W7 X, V7 O! o) n$ X
a)加入适量TPP除杂剂或低电流电解2 [& W( p6 M% ~' u
b)将PH值调至3.0-3.5后电解消耗0 l3 T  e# w! i  x; b1 U+ Y
4.镀层有针孔
% Z" z5 n2 i& M" L1 R% R& r% N4 ca)缺少润湿剂0 [6 ^' {# w5 |- A3 z
b)金属基体有缺陷或前处理不良
( z& i1 G1 e/ R- P( Wc)硼酸含量及温度太低
" [: R1 h) k* W: d7 Yd)有机杂质过多& k( A. Z+ b7 X- L! @, ~
a)补加EHS润湿剂
# ]; J4 ~( B( H5 B& R* J& eb)加强前处理6 ?1 ~! Z( P$ I" o9 J2 p' {
c)分析硼酸浓度,将镀液加温( {' Y- g7 Z9 A+ A/ l
d)用双氧水活性炭处理& G* A0 V2 p, Y5 z# e
5.镀层粗糙有毛刺+ s$ P: J4 ]4 D; ]$ ~: {7 A5 K0 Q4 i4 f
a)镀液中有悬浮微粒2 T, t. Y/ D( i* d4 l1 d
b)镀液受阳极泥渣污染9 V3 r2 Z: O( J% r! P6 Q+ l4 X% H; H
c)铁离子在高PH下形成氢氧化物沉淀附在镀层中2 ~+ a! C( S& B0 Q0 ?1 `) \4 U
a)连续过滤
2 }8 j* G, `! g- L% ~0 ]b)检查阳极袋有否破损,将镀液彻底过滤$ |9 D' r4 U  x* M( O* y! h
c)调整PH至5.5加入QF除铁粉;防止铁工件掉入槽中.# X1 f' K$ P* h( s# f  b( A
6.镀层发花2 M2 k7 M! M5 c3 s+ e1 U+ I: T& e
a)十二烷基硫酸钠不足或溶解不当或本身质量有问题9 S$ K$ g$ [1 m( W: j2 {
b)硼酸不足,PH值太高,% [8 v1 Z/ R5 w0 ?) J* b
c)分解产物多
2 N' K4 W4 J' U+ hd)前处理不良6 d0 O$ m; O3 X! J- }+ Y
a)检查十二烷基硫酸钠质量,如质量没问题应正确溶解并适当补充.
/ s, s* ?' W; F" A, B! a. mb)补充硼酸调整PH值.+ I$ \3 s# \7 q2 H& }% |
c)用双氧水活性炭处理) g5 K7 p: `* n9 ?
d)加强前处理
+ i& w, m$ j2 Z, S/ Y9 @3 M7.镀铬后发花
, L/ d& ?& k. d( wa)镀液中糖精量太多1 t0 N/ R6 K7 V
b)镀镍后搁量时间太长,镍层钝化7 ^9 V. ?, |/ i& m8 }! a
a)电解处理,停加糖精,补充次级光亮剂9 J* |4 J% `- R- c2 R
b)缩短搁置时间或用10%的硫酸电解活化处理
" o8 S0 |$ B8 v8 g& E* R# m" R" ], u# S8.镀层有条纹- f. G1 M% ?' @  u, X
a)镀液中锌杂质过量; Y( `# r* F+ u1 Z3 i0 U
b)镀液浓度太低
7 B5 z$ G" `. V/ b* d/ ?9 `c)PH值太低,DK太大* r, ?4 y5 ^# L& d/ e
d)有机杂质污染7 a8 o. b8 y0 k8 {, o# z) _
a)加入TPP除杂剂$ Z4 o" w+ Z/ `& ?% U) M
b)提高硫酸镍含量: U, V0 p7 K" o6 a+ p* [* K8 s9 m' R
c)调整到工艺规范d)对症处理3 m- D$ N4 l3 Z+ G4 W4 X
9.镀层易烧焦! B! W4 T) F! n+ ]5 |) f
a)主盐浓度太低1 D( ?9 P- v# j1 k8 k+ p# g. l2 m
b)镀液温度太低. y" U3 a9 K! l* i$ ]( X
c)硼酸含量不足,PH高
8 c0 J" \1 {5 i. m) Nd)润湿剂过量& K+ @1 g- s' T6 E% q
a)分析成份后补充
! ?( a! @' ]; p+ _# zb)提高温度至55-60OC
7 z/ S. y1 v& b6 |- k! {c)补充硼酸调整PH值
/ @$ {& P" s' O3 W6 }. ld)采用活性炭吸附( a% z* H: M# v1 J4 ~
10.镀层脆性大5 l# U% U: V& c0 v% F
a)光亮剂过量
. O0 ?9 u4 @; m* Zb)有机杂质污染
, U% T1 _  A# I/ o5 cc)金属杂质过高
" _$ V1 q/ }$ p  {d)六价铬污染% I) K, a5 r$ ], \
a)调整PH值3.0—3.5电解消耗
9 ]& g2 A9 D5 S, l! {- _$ Jb)用活性炭双氧水处理
& h& |& q; d& k- t' V, u; ec)加入TPP除杂剂d)用保险粉处理
5 M+ d% k4 V+ h5 T! \11.阴极电流效率低
6 I7 |( _. q( v* J3 U+ {a)主盐浓度不足: ^* O* l5 H  [+ M  t
b)PH值过低
9 d* F* c9 B# _9 O! b4 M/ Y+ b- x8 lc)阳极钝化阳极面积不够: R" e" F8 L+ R& J
d)镀液被氧化剂污染1 l5 G6 ^' j- m5 t6 S: a' ^$ q! D, |
a)提高主盐浓度' n1 T, ~' C5 I. a5 _
b)调整工艺范围
. T- \( `* j+ q+ T7 S5 fc)提高氦离子含量,增加阳极面积4 j) Q- A2 w6 ?' p0 r% x
d)对症处理7 y1 _) C& X) d( O( b
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