材料生产设备--MPCVD薄膜制备装置

优普莱

适合的应用：
6 t2 w( c1 J0 q0 H* f6 Z化学气相沉积法制备石墨烯薄膜、碳纳米管薄膜、富勒烯、金刚石膜和类金刚石膜等高品质碳纳米薄膜材料；
化学气相沉积法制备其他高品质无机薄膜；
等离子体清洗、微波烧结、金属表面强化和高聚物表面改性等。
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产品特点：
  L* x) |; n7 a# K, ]  u# c  P微波频率2.45GHz，微波功率连续可调，可长时间连续工作；
7 n  n0 A$ ]4 E; V0 T微波等离子体装置能量转化效率高，等离子体活性强密度高，无电极放电，从而避免了电极污染；
产品功率从1kw到5kw，有石英管式、石英钟罩式和金属谐振腔式等多种产品形式；
0 J% Z6 `5 n4 c7 p, u# @8 f$ ]- n, H* v产品配有可升降的基片台和反应气体均流措施，改善了沉积环境；
/ ]6 u/ T4 G8 y; L+ D基片台可选加热和水冷配置以及偏压电场；
两路至四路气体可选，气体流量控制采用MFC或转子流量计，气路管道电化学抛光；
配备冷却水循环系统，无水源要求，确保装置高功率下长时间安全稳定运行；
采用干式／湿式机械真空泵，可选配扩散泵与涡轮分子泵。
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